超大尺寸與超高清 （雙超）顯示專場

　　2月27日，由TrendForce集邦咨詢旗下LEDinside、WitsView主辦的2025集邦咨詢新型顯示產業研討會“超大尺寸與超高清（雙超）顯示專場 ”在深圳盛大召開。作為新型顯示領域的開年盛會，大會匯聚業內頂尖企業及專家，聚焦Micro/Mini-LED、OLED/硅基OLED等前沿技術，共探“超大尺寸與超高清”顯示的未來趨勢。成都辰顯光電有限公司副總經理兼CTO曹軒博士受邀出席，并發表題為《TFT基Micro-LED拼接屏產品化進展 》的主題演講，全面展示了辰顯光電在Micro-LED技術研發與產業化進程中的里程碑成果。

直擊大尺寸顯示痛點
TFT基Micro-LED技術優勢顯著

　　曹軒博士在演講中指出，大尺寸顯示產品的市場前景持續看好，隨著指揮調度、會議培訓、廣告等場景對大尺寸顯示需求的激增，現有顯示技術存在低畫質、有拼縫等諸多痛點。TFT基Micro LED顯示在大尺寸顯示應用中具有獨特優勢，能夠提供至臻的畫質，帶來影院級的觀賞體驗;其“零邊框”設計更消除了傳統拼接屏的視覺割裂感，搭配AM驅動技術更加舒適護眼，同時無機材料的穩定性顯著延長屏幕壽命。

攻克技術難題

推動產品化進程

　　在TFT基Micro-LED拼接顯示器的制造過程中，LED芯片性能、巨量轉移技術的陣列特性以及易碎基板特性共同影響著產品性能，其量產主要面臨四大技術挑戰：均勻性差、壞點頻發、拼縫可見及視角分屏問題。針對這些行業難題，辰顯光電通過系統性技術創新實現了突破性進展：在畫質均勻性方面，采用全球首創的混Bin+Demura技術，成功實現了像素級畫質均勻性控制，使亮度均勻性超過98%、波長差異小于2nm;在可靠性提升方面，通過多重修復技術體系的應用，在拼接屏產品中達到零壞點標準;針對拼接工藝瓶頸，其自主研發的無縫拼接方案將拼縫精度控制在20μm以內，并基于創新的光學表征標準實現屏體間的無痕融合;在視角一致性方面，通過Micro-Lens陣列設計重塑發光角度，徹底消除視角分屏現象，實現了170°超大視角范圍內亮度差異小于2%的卓越表現。這一系列創新技術從材料匹配、工藝優化到系統設計多維度協同發力，系統性攻克了制約Micro-LED拼接顯示產業化的關鍵技術壁壘。

量產進程加速

共筑顯示新生態

　　公司擁有兩大智能工廠：VSD中試線用于技術研發和測試，VSM量產線用于大規模生產。目前，公司已推出TFT基Micro-LED VM系列產品涵蓋P0.5、P0.78等多規格拼接屏產品，可滿足指揮中心、高端會議等商顯場景需求。依托超千項專利技術，辰顯光電正與產業鏈協同推進成本優化，加速 Micro-LED產業化進程。